
固体表面分析2
コタイヒョウメンブンセキ
進歩の著しい手法を入門者向けに親切に解説2巻は、これから表面分析に取り組む人のために、総合的な表面研究・分析例を豊富に取りあげた。FT-IR、STM、AFM、RBSおよびケ-ススタディ。
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目次
6 フーリエ変換赤外分光法
1.フーリエ変換赤外分光法の基礎
2.IR透過法
3.高感度反射法(IRAS)
4.全反射赤外吸収(ATR)法
5.顕微赤外分光法
6.参考文献
7 走査トンネル顕微鏡
1.STMの基礎
2.STM装置
3.STMの観察例
8 原子間力顕微鏡
1.原子間力顕微鏡の基礎
2.AFMに基づく新しい測定方法
3.AFMによる接触測定
4.AFMによる非接触測定(静電気力の測定)
9 ラザフォード後方散乱法
1.はじめに
2.RBS法の原理
3.RBS装置
4.RBS/チャネリング法による分析
10 ケーススタディ
1.Si酸化膜の成長のキャラクタリゼーション
2.エピタキシャル成長過程
3.アルミニウム選択CVD反応のin situ観察
4.触媒表面のキャラクタリゼーション
5.ダイヤモンドの表面吸着構造―拡散反射赤外分光法による気相成長過程解明をめ ざして―
6.単結晶表面上の反応解析
7.深さ方向の分析―InP、GaAs系多層膜の深さ方向分析―
8.面分析―鉄鋼材料の破面分析―
9.有機物分析―チャージアップ補正の例―
10.高分子材料の表面・断面分析
11.半導体の不純物分析―AESとSIMSの比較―
書誌情報
紙版
発売日
1995年04月14日
ISBN
9784061533660
判型
A5
価格
定価:6,942円(本体6,311円)
ページ数
324ページ
著者紹介
その他: 荒賀 年美(アラガ トシミ)
その他: 安藤 寿浩(アンドウ トシヒロ)
その他: 石田 英之(イシダ ヒデユキ)
その他: 伊藤 正時(イトウ マサトキ)
その他: 工藤 昭彦(クドウ アキヒコ)
その他: 酒井 明(サカイ アキラ)
その他: 坂上 弘之(サカガミ ヒロユキ)
その他: 佐藤 洋一郎(サトウ ヨウイチロウ)
その他: 鈴木 茂(スズキ シゲル)
その他: 田中 浩三(タナカ コウゾウ)
その他: 田中 繁夫(タナカ シゲオ)
その他: 堂免 一成(ドウメン カズナリ)
その他: 内藤 周弌(ナイトウ シュウイチ)
その他: 野村 淳子(ノムラ ジュンコ)
その他: 服部 健雄(ハットリ タケオ)
その他: 堀池 靖浩(ホリイケ ヤスヒロ)
その他: 堀越 佳治(ホリコシ ヨシジ)